Photovoltaik-Produktion: Schlüsselfertige Anlage von SCHMID ermöglicht Fertigung multikristalliner Solarzellen mit 18% Wirkungsgrad

Die SCHMID Group (Freudenstadt) sieht sich gut für die aktuellen Anforderungen der Zellhersteller im Photovoltaik-Markt gerüstet. Mit dem APCVD-Durchlaufofen der Serie 5500 stehe ein bewährtes System zur industriellen Massenproduktion von hocheffizienten Solarzellen zur Verfügung, das bereits in speziellen Anwendungsfeldern im Einsatz sei, beispielsweise zur Fertigung dotierter Gläser in der Halbleiterindustrie.

Investitionsbereitschaft für hocheffiziente Technik vorhanden
Dr. Christian Buchner, Leiter der Geschäftseinheit Photovoltaik bei der SCHMID Group sieht SCHMID gut aufgestellt um die aktuellen Anforderungen zu erfüllen, die aus China kommen.
„Wir haben uns die verbindlichen Richtlinien der Chinesischen Regierung für Investitionen in der Solar-Industrie genau angesehen und sehen uns in unserer Prognose bestätigt, dass kurz- und mittelfristig nur PV-Hersteller überleben werden die jetzt in neues Equipment investieren, das die Herstellung von Hochleistungssolarzellen mit über 20% Wirkungsgrad ermöglicht. Für unsere Turn-Key-Lösungen garantieren wir 18% Wirkungsgrad bei der Produktion von multikristallinen Zellen und 20% für monokristalline Zellen. Die Bereitschaft zu investieren ist da, aber nur in hocheffiziente Technik“, betont Buchner.

Produktionskosten für Passivierungs- und Deckschichten rund 40–50 % niedriger
Beim PERC-Produktionsprozess biete SCHMID als einziger Equipment-Hersteller ein vollständiges Verfahren aus einer Hand. SCHMIDs PERC-Portfolio reiche von der Rückseitenreinigung über die APCVD-Beschichtung bis zum Laseröffnen der beschichteten Rückseite. Alle Anlagen seien einfach in bestehende Produktionslinien integrierbar und böten die niedrigsten Betriebskosten am Markt. Mit Einsatz der SCHMID-Technik sei das Aufbringen der Passivierungs- und Deckschichten mit der APCVD um rund 40-50% günstiger als mit alternativen ALD- oder PECVD-Verfahren.
PERC-Zellen bestehen aus kristallinem Silizium. Zur Rückseitenpassivierung wird mittels APCVD eine Aluminiumoxidschicht auf das Basismaterial abgeschieden. Die Rückseitenbeschichtung wird durch zwei ebenfalls mittels APCVD hergestellten Deckschichten komplettiert. Die PERC-Zellen erreichen laut SCHMID – vom Wafermaterial abhängig – mittlere Wirkungsgrade von 20%-20,5% auf Cz-Silizium und 18%-18,5% auf mc-Silizium bei Anwendung des SCHMID-Prozesses.