Applied Films: erste Vakuum-Beschichtungsanlage für Solarzellen-Herstellung verkauft
Das Unternehmen Applied Films gab am 11. Februar 2005 den ersten Verkauf seines neu entwickelten Solarzellen-Beschichtungssystems bekannt. Applied Films ist ein führender Anbieter von Dünnschicht-Produktionsanlagen. Die Anlagen werden eingesetzt bei der Herstellung von Flachbildschirmen, Architekturglas und Solarzellen, aber auch in der Verpackungs- und Elektronikindustrie. Das „ATON 1600“-System werde vom Kunden genutzt, um passivierende Silizium-Nitrid (SiN:H)-Anti-Reflektionsschichten auf multikristalline Solarzellen zu sputtern. Ausgeliefert wird das System laut Applied Films im zweiten Quartal 2005. Mit dem neuen System erhöhe sich die Fertigungskapazität des Kunden deutlich, so das Unternehmen in einer Pressemitteilung.
Massenproduktionstaugliches Photovoltaik-Fertigungssystem
Mit dem „ATON 1600“-System erreiche das Fertigungsunternehmen eine deutlich höhere Produktivität, betont Applied Films. „Wir sind sehr froh darüber, dass die Solar-Industrie unser ATON- System und unsere Verfahrenstechnik annimmt“, sagte Thomas T. Edman, CEO von Applied Films. „Als Folge unseres kontinuierlichen Investments in diese Industrie bieten wir nun erfolgreich ein massenproduktionstaugliches Fertigungssystem für den Photovoltaik-Markt an, von dem wir erwarten, in den nächsten Jahren unseres weiteres Unternehmenswachstum voranzutreiben“, so Edmann.
Die ATON ist nach Angeben des Herstellers das weltweit erste kommerziell verfügbare In-Line-Vakuum-Sputter-System für die Solarzellen-Herstellung. Das Vakuum-Sputter-Verfahren (Physical Vapor Deposition – PVD) biete zahlreiche Vorteile für die Solarzellen-Produktion. Sputtern (PVD) sei ein umweltverträgliches Verfahren, das gänzlich ohne gefährliche Prozessgase auskomme. Ausgelegt auch auf dünnste Wafer und großflächig skalierbar, könne die ATON alle Wafer-Größen verarbeiten. Aufgrund seiner unterbrechungsfreien Betriebszeit von fünf bis zehn Tagen sei das System allen anderen derzeit verfügbaren Solarzellen-Beschichtungstechnologien überlegen.
Entwicklungszusammenarbeit mit dem Fraunhofer ISE
Entwickelt wurde die ATON-Prozesstechnologie in enger Zusammenarbeit mit dem Fraunhofer Institut für Solarenergie (ISE) in Freiburg. Mit gesputtertem Silizium-Nitrid seien Zellwirkungsgrade von mehr als 15 % erreicht worden – ein Resultat, das vergleichbar sei mit den besten Werten derzeit eingesetzter chemisch basierter Sputter-Verfahren (Physical Enhanced Chemical Vapor Deposition – PECV). Die Silizium-Nitrid-Schichten, die mit dem Vakuum-Sputter-Verfahren aufgebracht werden, zeichnen sich laut Applied Films durch hohe Schichtuniformität und einen guten Refraktionsindex aus, beides wichtige Faktoren im Hinblick auf das gleichmäßige optische Erscheinungsbild einer Solarzelle. In dem Vakuum-Sputter-Prozess sei ein Homogenitätsgrad besser als +/- drei Prozent erreichbar, sogar auf großen Flächen. Die ATON ermögliche hohe dynamische Beschichtungsraten. Konfiguriert mit zwei Kathoden können laut Applied Films bis zu 5.000 Wafer (125 x 125 Millimeter) pro Stunde verarbeitet werden. Dies entspreche einer jährlichen Produktionskapazität von ungefähr 100 Megawatt peak (MWp).
17.02.2005 Quelle: Applied Films GmbH & Co. KG Solarserver.de © EEM Energy & Environment Media GmbH
