Europäischer Photovoltaik-Industrieverband organisiert seine erste internationale Konferenz zur Dünnschicht-Technologie

20.10.2008 / Archiv / Photovoltaik

Mehr als 300 Experten für Dünnschicht-Photovoltaik werden am 13.11.2008 zur ersten internationalen Dünnfilm-Konferenz des europäischen Photovoltaik-Industrieverbandes (EPIA) in München erwartet. Durch die wachsende Nachfrage nach Photovoltaik-Produkten auf den PV-Märkten in Europa und den USA würden immer mehr technische Lösungen angeboten, und ganz besonders viele mit Dünnschichttechnologie, betont EPIA in der Ankündigung der Veranstaltung. Mit seinem ersten Dünnschichtkongress will der Verband eine internationale Industrieplattform schaffen, die sich auf die Dünnschichtproduktion konzentriert.
Die Referenten aus der Industrie werden sich fünf Themenblöcken widmen: Markt- und Produktionsentwicklung, Produktionstechnologien, schlüsselfertige Produktionsanlagen für Megawatt-Fabriken, Dünnschicht-Investments sowie notwendige Maßnahmen und Nachhaltigkeit.

4 GW Produktionskapazität bis 2010 erwartet
Nach Berechnungen von EPIA wird bis Ende 2010 eine Dünnschicht-Produktionskapazität von rund vier Gigawatt (GW) erreicht sein. Das würde rund 20 % der weltweiten Photovoltaik-Fertigungsleistung entsprechen. Wie dies möglich wird und welche Kostensenkungspotenziale die Dünnschicht-Photovoltaik eröffnet, soll auf der Konferenz ebenso thematisiert werden wie der Weg zur Wettbewerbsfähigkeit (grid parity). Der Kongress präsentiert den neuesten Stand der Dünnschichttechnologie, Trends auf den Märkten, erfolgreiche Investitionen in diesem Bereich und liefert umfangreiche Hintergrundinformationen, vom Material über das Produktions-Equipment bis hin zu den Modulherstellern.
Das Programm der Konferenz ist zugänglich unter
http://www.thinfilmconference.org/