US-Photovoltaik-Hersteller HelioVolt und NREL erhalten Technologiepreis des R&D Magazins

Die HelioVolt Corporation (Austin, Texas) berichtete am 23. Oktober 2008, dass sie gemeinsam mit dem National Renewable Energy Laboratory des U.S.-Ministeriums für Energie (NREL; Golden, Colorado) vom R&D-Magazin mit dem Editor’s Choice Award for Most Revolutionary Technology ausgezeichnet wurde. Den Preis erhielten NREL und HelioVolt zusätzlich zu dem vormals vergebenen R&D 100 Award, er würdigt die gemeinsam erzielten Fortschritte bei der Entwicklung eines einfacheren und schnelleren Druckverfahrens für Dünnschicht-Solarzellen.
NREL’s Beschichtungstechnologie per Tintenstrahl-Druck und der „FASST“-Druckprozess von HelioVolt wurden entwickelt, um zu einer Kostensenkung der Solarstromproduktion beizutragen.

Öffentlich-private Kooperation für innovative Solartechnologie
„Die geringeren Produktionskosten hochqualitativer Photovoltaik-Produkte erlauben einen grundlegenden Wechsel unseres Energiemixes, weg von traditionellen, umweltschädlichen Quellen hin zu erneuerbarer Energie von der Sonne. Ich bin stolz darauf, dass unsere gemeinsame Arbeit mit NREL von den R&D-Redakteuren ausgezeichnet wurde – nicht nur wegen der innovativen Forschung, sondern auch wegen ihrer realen wirtschaftlichen und ökologischen Implikationen“, sagte Dr. Louay Eldada, Chief Technical Officer (CTO) von HelioVolt. R&D-Chefredakteurin Martha Walz kommentierte die Auszeichnung so: „Forscher haben während der letzten drei Jahrzehnte von einer Zeit geträumt, in der man Häuser einfach, schnell und günstig mit photovoltaik-beschichteten Materialien bauen kann, um den für das Gebäude benötigten Strom zu erzeugen. Diese Vision wird bald Wahrheit, dank des von HelioVolt und NREL entwickelten, kostengünstigen Druckprozesses für Dünnschicht-Solarzellen.“
Auch Dan Arvizu, Direktor von NREL, zeigte sich erfreut über die Ehrung: „Die Dünnschicht-Photovoltaik hat mit deutlicher Kosten- und Materialreduktion bei der Erzeugung von Solarstrom bereits große Wellen in der Branche geschlagen“, sagte er. „Die Zusammenarbeit des öffentlichen und privaten Sektors beschleunigt die Marktreife dieser Technologien und wir sind erfreut darüber, diese nationale Auszeichnung mit HelioVolt teilen zu können“, so der NREL-Direktor weiter.

Schnellere Produktion von Dünnschicht-Solarzellen
Das „FASST“-Druckverfahren von HelioVolt erlaubt nach Angaben des Unternehmens eine im Vergleich zu anderen Methoden zehn- bis hundertmal schnellere Fertigung qualitativ hochwertiger Dünnschichtprodukte auf Grundlage von Kupfer-Indium-Gallium-Selen (CIGS). FASST könne mit Vakuumbeschichtung, Ultraschallvernebelung oder Tintenstrahldruck kombiniert werden, was hohe Flexibilität und besonders niedrige Herstellungskosten ermögliche, betont HeloVolt. Das NREL verwendet eine Tintenstrahldruck-Technologie zur Beschichtung von Dünnschicht-Solarmodulen. HelioVolt nutzt FASST sowohl für herkömmliche Photovoltaik-Module als auch für gebäudeintegrierte Produkte der nächsten Generation (building integrated photovoltaic; BIPV), FASST wird zur industriellen Produktion erstmals in der neuen Fabrik von HeliVolt in Austin (Texas) eingesetzt.

05.11.2008 | Quelle: HelioVolt Corp. | solarserver.de © EEM Energy & Environment Media GmbH