Oerlikon Solar gewinnt Cell Award 2009 für bestes Produkt zur Herstellung von Dünnschicht-Solarmodulen

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Oerlikon Solar, ein weltweit führender Anbieter von Verfahren und Produktionsanlagen für die Dünnschicht-Silizium-Photovoltaik (PV), ist einer der Gewinner des CELL AWARD 2009, der dem Unternehmen auf der weltgrößten Photovoltaik-Fachmesse, der INTERSOLAR 2009 in München, überreicht wurde. Die Jury zeichnete das System zur plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung (plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD) KAI 1200 von Oerlikon Solar als „Bestes technisches Produkt für die Herstellung von Dünnschicht-Solarmodulen“ aus. „Wir sind sehr stolz auf diesen Erfolg und auf die damit verbundene Anerkennung der führenden Technologie und hochwertigen Produktionsanlagen von Oerlikon Solar“, sagte Jeannine Sargent, CEO von Oerlikon Solar. „Diese Auszeichnung spiegelt unsere intensive Forschungs- und Entwicklungsarbeit auf dem Gebiet der Dünnschicht-Photovoltaik wider. Wir von Oerlikon Solar bleiben auch weiterhin bestrebt, unsere Rolle als Technologieführer beizubehalten und unser erklärtes Ziel, Solarenergie wirtschaftlich zu machen, zu erreichen.“
Die zukunftsweisende PV-Fertigungstechnologie ist nach Angaben des Unternehmens gegenwärtig bereits bei weltweit zehn Kunden in Produktion oder im Aufbau. Die ausgelieferten Anlagen verfügen laut Oerlikon Solar über eine jährliche Produktionskapazität von 600 Megawatt (MWp), was wiederum ermöglicht, genügend Solarstrom zu erzeugen, um damit 480.000 Haushalte zu versorgen.

Mit der auf dem PECVD-Verfahren basierenden Anlage KAI 1200 von Oerlikon Solar werden Silizium-Absorberschichten aufgebracht, die den Kern der „Micromorph“-Dünnschicht -Solartechnologie von Oerlikon Solar bilden. Das Aufbringen dieser Schichten ist einer der kritischsten Produktionsschritte und die Qualität dieses Herstellungsschrittes beeinflusst in hohem Masse Effizienz und Leistung der Dünnschicht-Solarmodule. Außer für die Produktion von qualitativ hochwertigen Absorberschichten wurde die KAI 1200 auch dazu entwickelt, die Produktionsgeschwindigkeit deutlich zu steigern und so die Zykluszeit um über 30 Prozent zu reduzieren. Die mit Kai 1200 erzielten Verbesserungen seien ein wesentlicher Beitrag zur Senkung der Gesamtproduktionskosten und damit zugleich auf dem Weg zur Netzparität, heißt es in der Pressemitteilung.

Weiterentwickelt zur Optimierung der Photovoltaik-Produktion
Die KAI 1200 wurde von ihrer ursprünglichen Verwendung zur Herstellung von Flachbildschirmen weiterentwickelt. Die Anpassung und Optimierung des dort bereits bewährten PECVD-Verfahrens zur Herstellung von Dünnschicht-Silizium-Photovoltaik erforderte die Bewältigung einiger bedeutender technischer Herausforderungen; insbesondere die Erhöhung der Plasmafrequenz zur Verbesserung der Depositionsgeschwindigkeit. Außerdem galt es sicherzustellen, dass der mit erhöhter Plasmaquellenfrequenz einhergehende Effekt der „stehenden Welle“ nicht zu einem Homogenitätsverlust und so zu einer verringerten Moduleffizienz führt. Ingenieure von Oerlikon Solar entwickelten mit Erfolg ein Verfahren, zur Nutzung der Plasmaquellen-Anregungsfrequenz im RF-Bereich. Diese ist im Oerlikon Solar PECVD Verfahren mit 40 MHz um ein Mehrfaches höher als die Industrienorm von 13,56 MHz. Auf der Grundlage von gemeinsam mit dem IMT in Neuchâtel und der EPFL in Lausanne, beide in der Schweiz, durchgeführten Forschungsarbeiten hat Oerlikon Solar so eine dielektrische Linse entwickelt, die den Effekt der stehenden Welle beseitigt.

Rekordwirkungsgrad und verbesserte Absorberschichten
„Durch die 40-MHz-VHF-Technologie, die in unserer patentierten ‚Plasma Box‘ steckt, konnte die Depositionsgeschwindigkeit erheblich gesteigert und die Qualität der Absorberschicht verbessert werden, wodurch Rekordwerte bei der Effizienz unserer Dünnfilm-Silizium-Solartechnologie erzielt werden können“, erklärt Dr. Jürg Henz, Leiter des Geschäftsbereichs Thin Film. Wo früher typische Depositionsraten von ein bis zwei Ångström erreicht wurden, habe Oerlikon Solar mit der KAI 1200 die Abscheidegeschwindigkeit auf den1,4m² grossen Solarmodulen verdoppelt ohne die Schichtqualität zu mindern. Amorphe, einschichtige Module erreichen damit nach Angaben des Unternehmens heute einen anfänglichen Wirkungsgrad von 9,6 Prozent, Micromorph-Zellen liegen bereits bei über 13 Prozent.
Von den ersten Konzepten Anfang 2000 an hat Oerlikon Solar diese neue Plasmaquelle erfolgreich in die Massenproduktion geführt. Seitdem seien mehr als 900.000 Dünnschicht-Silizium-Solarmodule unter Anwendung von Oerlikon Solars patentierter „Plasma Box“-40-MHz-Technologie produziert worden.

05.06.2009 | Quelle: Oerlikon Solar Ltd. | solarserver.de © EEM Energy & Environment Media GmbH

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