Photovoltaik-Produktion: SCHMID entwickelt neues Verfahren zur Textur diamantdrahtgesägter Multi-Wafer

Die SCHMID

Group (Freudenstadt) entwickelt ein kostengünstiges Verfahren zur Textur diamantdrahtgesägter Wafer, das leicht in bestehende Produktionslinien integriert werden kann. Die ersten Produktionsanlagen sollen im 2. Quartal 2017 ausgeliefert werden berichtet das Unternehmen.
Unter dem Namen „DW PreTex“ präsentiert SCHMID das Verfahren das auf einem Inline-Nassprozess basiert. Es raut die relativ glatte Oberfläche der Wafer auf, sodass sie anschließend mit der Standard-Textur HF/HNO3 bearbeitet werden kann.
Damit lasse sich DW PreTex leicht in die bestehende Produktion integrieren – sowohl bei Wafer- als auch bei Zellherstellern.
„In unserem Technology Center haben wir für alle namhaften Kunden weltweit bemustert“, erläutert Dr. Christian Buchner, Leiter des SCHMID Geschäftsbereichs Photovoltaics.

Gleichmäßigere Oberflächen, niedrigere Kosten
„Mit DW PreTex erreichen unsere Kunden gleichmäßigere Oberflächen, als wenn sie slurrygesägte Wafer texturieren – bei Betriebskosten von weniger als 0,01 Euro pro Wafer.“
Im hart umkämpften PV-Markt sei das ein absoluter Wettbewerbsvorteil. Denn mit Diamantdrahtsägen ließen sich Wafer 0,06–0,08 Euro günstiger herstellen. Dementsprechend groß sei die Nachfrage nach DW PreTex; erste Bestellungen für die industrielle Massenfertigung über 500 MW lägen bereits vor und es würden weitere 5 GW bis Mitte des Jahres erwartet.
Bislang werden multikristalline Wafer meist mit Slurry-Sägen aus dem Ingot getrennt. Dabei sind Diamantdrahtsägen deutlich günstiger, weil sie schneller sind und weniger Silizium verschwenden.
Einziges Problem: Der Diamantdraht hinterlässt eine glatte Oberfläche, die nicht direkt texturiert werden kann. Bisher vorgestellte Verfahren waren entweder zu teuer, zu umweltschädlich oder scheiterten an den Qualitätsanforderungen.
Anders die Lösung von SCHMID: DW PreTex benötigt laut Anbieter nur einen Prozessschritt, damit diamantdrahtgesägte Multi-Wafer mit der bewährten Standard-Textur HF/HNO3 bearbeitet werden können.
Zudem verwende das innovative Verfahren in der PV-Industrie gebräuchliche Stoffe und könne als modular aufgebaute Nassprozessanlage ohne zusätzliche Aufwendungen in die bestehende Produktion integriert werden. Bei niedrigsten Betriebskosten erreiche das Verfahren gleichmäßige Oberflächen mit Reflexionswerten von R < 23 %.