Photovoltaik-Produktion: 12. ITRPV-Roadmap bewertet Entwicklungsstand der Technologien

Zu sehen ist eine Photovoltaik-Freiflächenanlage. Die 12. ITRPV-Roadmap erwartet in Zukunft, dass immer mehr 210-mm2-Wafer in der Photovoltaik-fertigung zum Einsatz kommen.Foto: @sasel77 / stock.adobe.com
Die 12. ITRPV-Roadmap beschreibt den Reifegrad der Produktionstechnologien in der PV.
In der 12. Ausgabe der ITRPV-Roadmap stehen Wafer-Größen im Fokus der Diskussion. Insbesondere für das Wafer-Format von 210 mm² ist laut den Expert:innen noch weitere Entwicklungsarbeit nötig.

Die 12. Edition der International Technology Roadmap for Photovoltaic (ITRPV) inklusive der Diskussion des Technologiereifegrades ist veröffentlicht. Mehr als 35 Experten entlang der Photovoltaik-Wertschöpfungskette bewerten in der 12. ITRPV-Roadmap den Entwicklungsstand verschiedener Technologien im Rahmen der Produktion von Photovoltaik.

Der Reifegrad gibt Einblicke, inwieweit neue Technologien bereits eingesetzt werden oder ob es weiterer Entwicklungsarbeit für die Implementierung der Technologie in der Massenproduktion bedarf. Durch eine Farbmatrix werden ausgewählte Parameter entlang der Photovoltaik-Wertschöpfungskette bewertet.

Wafer-Größen im Fokus der 12. ITRPV-Roadmap

Die umfangreichen Diskussionen zu den Entwicklungen und der Diversifikation der Wafer Formate reißen nicht ab. Bei der Vielzahl der unterschiedlichen Wafer Größen werden insbesondere die größeren Formate 182 (+/-0,25) mm² und 210 (+/-0,25) mm² favorisiert. Die Größe der entsprechenden Wafer hat wesentlichen Einfluss auf zahlreiche technologische Aspekte – den Siliziumverbrauch, die Wafer Dicke, die Produktion der Solarzellen und Module sowie die resultierenden Moduldimensionen.

Eine wesentliche Rolle bei der Reduktion der Herstellungskosten von Photovoltaik spielt der Durchsatz der Anlagen. Bei der Betrachtung des Technologie-Reifegrades des Durchsatzes bei der Zellproduktion zeigt sich, dass sich der Reifegrad der Durchsätze über alle Prozessschritte hinweg bei den Größen 166 (+/-0,25) mm² und 182 (+/-0,25) mm² analog verhält. Hingegen zeigt das „Readiness Level“ bezogen auf die Durchsätze der Zellproduktion des größeren Wafer-Formats von 210 (+/-0,25) mm², dass perspektivisch mehr Entwicklungsarbeit notwendig ist. Im Allgemeinen sind die Durchsätze bei den chemischen Prozessen führend, gefolgt von den Metallisierungsprozessen. Lediglich die thermischen Prozesse zeigen eine Kapazitätsdifferenz.

Der Technologiereifegrad für verschiedene Parameter wird in der 12. Edition der ITRPV-Roadmap diskutiert. Die Ergebnisse können im Downloadbereich der ITRPV-Website unter dem nebenstehen Link kostenfrei heruntergeladen werden.

Gegen Ende des Jahres ist eine Datensammlung für die 13. Edition der ITRPV geplant. Der Fragebogen für die kommende ITRPV-Roadmap steht online unter diesem Link zur Verfügung. Das internationale ITRPV-Komitee freut sich auf Input bis zum 16. Dezember.

25.11.2021 | Quelle: ITRPV | solarserver.de © Solarthemen Media GmbH

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